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钟丽云; 张文碧;
云南工业大学激光研究所;
逆共轭光再现; 光栅刻蚀深度; 光刻胶; 记录材料;
机译:在重氮萘醌-酚醛清漆基光刻胶及其纳米复合材料上用脉冲激光记录全息图
机译:关于农业和林作中自动拍摄装置的记录结果
机译:光刻胶作为全息元件的记录材料
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:SU-8光刻胶中的体积全息图形成
机译:优化1毫米厚的PVA /丙烯酰胺记录材料以获得全息记忆:制备方法和全息性质-勘误
机译:全息记录材料研究。报告编号3.硬化明胶全息记录材料
机译:用于组成的体积全息图记录材料,以及使用该体积全息图记录材料的体积全息图记录材料,体积全息图光学记录方法和体积全息图光学记录介质
机译:全息记录材料,全息记录材料加工方法,光学记录介质,三维显示全息图的三维显示全息图和制造方法,以及全息光学元件的全息图光学元件和制造方法
机译:体积全息记录材料的组成,以及使用相同的体积全息光学记录介质和体积全息光学记录方法的体积全息记录材料
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