Toyohashi University of Technology, Toyohashi 441-8580;
ERDA; hydrogen storage material; ion beam assisted deposition; RBS; silicon nitride;
机译:离子束辅助沉积制备Zr基吸氢膜
机译:氮含量对离子束辅助化学气相沉积制备非晶态氢化碳薄膜力学性能和摩擦学性能的影响
机译:离子束诱导化学气相沉积与离子束辅助沉积制备的SiO_2薄膜的表面形态比较
机译:通过离子束辅助沉积制备的氢吸收膜
机译:离子束辅助沉积法沉积硅薄膜。
机译:通过DUV辅助溶液沉积工艺制备的YBa2Cu3O7-x超导膜的高临界电流密度
机译:离子束辅助沉积制备的Zr基吸氢膜(物理,过程,仪器与测量)
机译:离子束辅助沉积在陶瓷表面制备银膜的摩擦学行为。