Department of Applied Chemistry, School of Science and Engineering;
Kagami Memorial Laboratory for Materials Science and Technology, Waseda University, Shinjuku-ku, Tokyo, 169-8555 Japan;
机译:垂直磁记录介质软磁底层的高磁各向异性Fe-Co-B / Ni-Fe薄膜
机译:Al_2O_3添加剂对薄衬底上高B_s Fe-Co-Al-O薄膜软磁性能的影响
机译:电子回旋共振微波等离子体低温溅射沉积镍锌铁氧体薄膜-尖晶石铁氧体薄膜垂直磁记录介质的软磁背层
机译:下一代磁记录场电沉积技术制造高B_S软磁薄膜
机译:用于磁记录头的软高矩铁钴镍薄膜合金的电沉积和表征。
机译:使用全场软X射线显微技术检索弯曲磁性薄膜上的自旋纹理
机译:通过电化学方法形成用于磁记录装置的高性能软磁薄膜