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Simple Synthesis Method and Bending Strength of Si_3N_4 Nanowires

机译:Si_3N_4纳米线的简单合成方法和抗弯强度

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摘要

Si_3N_4 nanowire and SiO_2 amorphous nanowire with diameters of 10—70 nm and 10-300 nm, respectively, have been synthesized by heating Si powders or Si/SiO_2 mixtures with or without metal catalyst at 1200℃ at ambient pressure. It is found that metal catalysts are not necessary in growth of the Si_3N_4 and SiO_2 nanowires. The Si_3N_4 nanowire is single crystal and exhibits a reversible bending phenomenon under an illumination of electron beam in a transmission electron microscope (TEM). The bending strength of Si_3N_4 nanowire is much higher than that of bulk Si_3N_4 materials.
机译:通过在环境压力下于1200℃下加热硅粉或含或不含金属催化剂的Si / SiO_2混合物,分别合成了直径为10-70 nm和10-300 nm的Si_3N_4纳米线和SiO_2非晶纳米线。发现在Si_3N_4和SiO_2纳米线的生长中金属催化剂不是必需的。 Si_3N_4纳米线是单晶的,并且在透射电子显微镜(TEM)中在电子束照射下表现出可逆的弯曲现象。 Si_3N_4纳米线的抗弯强度远高于块状Si_3N_4材料的抗弯强度。

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