Institute of Semiconductor Physics SB RAS, Lavrentjeva ave., 13, Novosibirsk 630090, Russia;
Novosibirsk State University, Pirogova street 2, Novosibirsk 630090, Russia;
Laser Zentrum Hannover, Hollerithallee 8, 30419 Hannover, Germany;
amorphous silicon; pulse laser annealing; polycrystalline silicon; raman spectroscopy; non-refractory substrates;
机译:飞秒和纳秒激光脉冲在非难熔玻璃基板上的薄a-Si:H薄膜的结晶
机译:飞秒脉冲玻璃使用近紫外激光辐射在玻璃基板上非晶非晶氢化膜的结晶
机译:近紫外激光辐照在玻璃基体上的非晶态加氢薄膜的飞秒脉冲结晶
机译:非耐火玻璃基板上薄A-Si:H薄膜的飞秒和纳秒激光脉冲结晶
机译:纳秒和飞秒激光脉冲与碳的相互作用:沉积具有新颖成分的碳膜。
机译:纳秒和飞秒脉冲激光沉积法生长和表征Cu(InGa)Se2薄膜
机译:通过局部温度模拟估算纳秒脉冲激光辐照a-Si:H薄膜的局部结晶