Coll. of Electron. Eng., Chongqing Univ. of Posts Telecommun., Chongqing, China;
fault diagnosis; integrated circuit manufacture; principal component analysis; process control; process monitoring; spectroscopy; sputter etching; OES endpoint detection; PCA data reduction technique; integrated circuits manufacture; optical emission spectroscopy; plasma etching process monitoring; process fault correction; process fault detection; real time monitoring; very deep submicron meter size polysilicon gate etching;
机译:使用光学等离子体发射光谱在线监测硅的深反应离子刻蚀过程中的钝化突破
机译:多晶硅/ SiO {sub} 2 / Si结构的等离子蚀刻:Langmuir探针和发射光谱监测
机译:光发射光谱法用于诊断微波等离子体中金刚石的生长和蚀刻过程
机译:具有光发射光谱的等离子体蚀刻过程监测
机译:激光熔覆层的等离子体发射光谱,用于过程控制和激光熔覆NbAl合金的氧化行为。
机译:等离子刻蚀过程中用光发射光谱仪进行早期故障检测的相似率分析
机译:发射光谱作为研究,优化和监控等离子体辅助原子层沉积过程的工具
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。