Heraeus, Inc., Thick Film Materials Division, 24 Union Hill Road, West Conshohocken, PA 19428 Ph: (610)825-6050, Fax: (610)825-7061, dean.buzby@heraeus.com;
rnHeraeus, Inc., Thick Film Materials Division, 24 Union Hill Road, West Conshohocken, PA 19428;
thick film; lead free; alumina substrate;
机译:通过在Si(100)衬底上进行原子层沉积制备的100 nm厚氧化铝膜的机械和摩擦学性能
机译:氧化铝基板上丝网印刷铁氧体-铁电复合厚膜的电,磁和高频特性
机译:高致密0.0lPb(Mg_(1/2)W_(1/2))O_3-0.41Pb(Ni_(1/3)Nb_(2/3))O_3-0.35PbTiO_3-0.23PbZrO_3的压电特性+ 0.1 wt%氧化铝基板上的Y_2O_3 + I.5 wt%ZnO厚膜
机译:厚膜杂交种96%氧化铝基材的基准
机译:纳米厚的铜和铜合金薄膜与刚性基板结合时的应变松弛。
机译:复合超导铁磁性Bi2Sr2(CaY)2Cu3O10 0.99(La2 / 3Ba1 / 3MnO3)0.01复合厚膜
机译:1광운대학교전자재료공학al氧化铝基板上ag(Ta,Nb)O3厚膜的介电和微波特性研究
机译:DCU201飞机控制器厚膜介质,导体和氧化铝基板的相互作用。