Materials Research Centre, Indian Institute of Science, Bangalore -560 012, INDIA;
机译:脉冲激光沉积La_(0.6)Sr_(0.4)CoO_3缓冲的0.7Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-0.3PbTiO_3薄膜的铁电和介电性能
机译:弛豫器0.7Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-0.3PbTiO_3和0.9Pb(Mg_(1 / 3Nb_(2/3))O_3-0.1PbTiO_3的压电响应力显微镜纳米研究在铂和LaNiO_3电极上生长的薄膜
机译:0.7Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-0.3PbTiO_3薄膜电学特性的局部压电磁滞回线:下电极依赖性和膜厚效应
机译:场诱导介电性能为0.7pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-0.3PBTIO_3薄膜
机译:通过扫描近场微波显微镜表征薄膜介电性能
机译:超薄Hf-Ti-O高k栅介电薄膜的电学特性及其在ETSOI MOSFET中的应用
机译:激光烧蚀反铁电$(Pb_0 _._ 9_9Nb_0 _._ 0_2)(Zr_0 _._ 5_7Sn_0 _._ 3_8Ti_0 _._ 0_5)_0 _._ 9_8O_3 $薄膜的场致介电特性