IT-21 Center, Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan;
机译:溶胶-凝胶衍生的SrBi_2Ta_2O_9膜和超薄Si_3N_4缓冲层的金属铁电绝缘体半导体的电性能
机译:锂掺杂对溶胶凝胶NKN薄膜微观结构,电学性质和化学键的影响
机译:镧掺杂对溶胶-凝胶衍生的Pb_(1-3x / 2)La_x(Zr_(0.6)Ti_(0.4))O_3薄膜的优选取向,相结构和电性能的影响
机译:SM掺杂对溶胶 - 凝胶衍生的SRBI_2TA_2O_9薄膜电性能的影响
机译:溶胶凝胶衍生的铌酸锶钡薄膜:结构,光学和电学性质。
机译:源自聚合物改性溶胶 - 凝胶法Na0.5Bi0.5TiO3铁电厚膜的结构和电学性质
机译:掺杂浓度和退火温度对溶胶 - 凝胶法对Ga掺杂ZnO薄膜电和光学性质的影响