Semiconductor Technology Lab, GE Research Center, Niskayuna, NY 12309;
机译:通过数值分析和制造研究晶格调制的AlInGaN作为近紫外发光二极管的阻挡层
机译:alingan / Alingan超晶格电子阻挡层的algn基深紫外发光二极管的研究
机译:基于AIGAN的深紫外发光二极管的奇妙光学性能与基于内仑的最后一个量子屏障和步进电子阻挡层
机译:基于阿林安的深紫外线发光二极管及其应用技术
机译:用于智能纺织品的柔性有机发光二极管的制备与表征
机译:无需预激活p型GaN的GaN基发光二极管的制造和表征
机译:基于Algan的深紫外发光二极管的奇妙光学性能与基于内仑的最后量子屏障和步进电子阻挡层
机译:蓝色有机发光二极管的制备与表征