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GROWTH OF HOMOGENEOUS AND GRADIENT BC_xN_y FILMS BY PECVD USING TRIMETHYLAMINO BORANE COMPLEX

机译:三乙胺基硼烷配合物通过PECVD法生长均相和梯度BC_xN_y膜

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摘要

The homogeneous nanocrystalline BC_xN_y films were synthesized by PECVD at low pressure in the temperature range of 473-973 K using gaseous mixture of trimethylamino borane complex and/or ammonia, hydrogen, helium. We report on development and characterization of materials on the basis of the boron carbonitride with gradient of chemical composition or grain size. The as-grown films were characterized by the following methods: ellipsometry, IR- and Raman spectroscopies, XRD using synchrotron radiation, SEM and HREM.
机译:使用三甲基氨基硼烷配合物和/或氨,氢,氦的气态混合物,在473-973 K的温度范围内,通过低压在低压下通过PECVD合成均相纳米晶BC_xN_y薄膜。我们根据碳氮化硼的化学成分或晶粒度梯度报告了材料的开发和表征。所生长的薄膜通过以下方法进行表征:椭圆光度法,IR和拉曼光谱,使用同步辐射的XRD,SEM和HREM。

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