Lavoisier Institute (UMR 8180), University of Versailles - CNRS, Versailles, France;
机译:阳极多孔n-InP(100)层的电化学和光学表征
机译:使用通过相同途径生产的WO3或CuWO4交替层提高用于光电化学水分解的Cu2O / CuO的光稳定性和电荷传输性质
机译:WO3微粒层的光电化学性质
机译:多孔N-INP层的电化学和光电化学性能
机译:光电化学刻蚀制备的柱状多孔碳化硅的形成与表征。
机译:新型多孔TiO2阵列修饰的丝网印刷Ti电极对多巴胺的光电电化学传感
机译:蚀刻时间对光电化学阳极氧化对p型和n型多孔硅纳米结构表面结构性能的影响