FESTA Laboratories, 5-5 Tokodai, Tsukuba, Ibaraki 300-26, Japan;
Foundation Res. Lab., Fuji Xerox Co. Ltd., 430 Sakai, Nakaimachi, Kanagawa 259-01, Japan;
Electrotechnical Laboratory, 1-1-4 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305, Japan;
Electrotechnical Laboratory, 1-1-4 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305, Japan;
Electrotechnical Laboratory, 1-1-4 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305, Japan;
机译:飞秒光学开关通过方酸染料J聚集膜
机译:方酸染料J聚集体的超快非线性光学响应及其LB膜的制备
机译:含有双[4-(N-二丁基氨基)苯基]方酸染料的J状聚集体的薄膜的大共振三阶光学非线性
机译:Squarylium染料J-聚集体的飞秒光学非线性
机译:用于光学限制的聚次甲基和方酸铵分子的非线性。
机译:聚次甲基染料和H聚集体中光学带形状的性质:混沌和激子。与二聚体H *和J聚集体的比较
机译:朝着聚甲氨酸染料和J-聚集体的三阶非线性光学性质的分子重组能量分析