Fraunhofer Institut fuer Werkstoff- und Strahltechnik (IWS) Dresden Winterbergstrasse 28, D-01277 Dresden, Germany;
Mo; Si; B_4C; C; multilayer; barrier; EUV; X-ray; mirror; optics; diffusion;
机译:具有B_(4)C扩散阻挡层的Mo / Si多层微结构
机译:具有阻挡层的多层的逐层设计方法:应用于极端紫外光刻的Si / Mo多层
机译:多层涂层的性能与金属层的微观结构有关。 Mo / Si多层膜在极紫外和X射线范围内的表征和光学性质
机译:MO / SI多层具有阻挡层的微观结构
机译:在独立的阻挡层之间包含氮间隔物的多层阻挡膜。
机译:使用SPS工艺实施的二硫化钼纳米晶体和多层石墨烯增强的铝基复合材料的闭模Up锻-组织演变
机译:预热对激光再熔热阻挡涂层的微观结构演化的影响/ Ni基单晶超合金多层系统