Advanced Mask Technology Center, Raehnitzer Allee 9, 01109 Dresden, Germany;
mask technology; RET; pellicle; etch; repair; EUV; absorber; reflectance;
机译:高级光学光刻中减毒相移掩模的三维掩模效应研究
机译:下一代光刻技术的先进相移掩模的掩模形貌效应的基础研究
机译:中心 - 环绕面罩在比覆盖面罩的方向和空间频率范围内运行较窄的范围
机译:在高级面具技术中心的面具研发活动
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:作为消除一次性N95掩模使用和resterilization的策略实施弹性体掩模计划:大学医学中心的结果
机译:Covid-19 - 通过评估ICU中的护士使用的掩模内外表面和外表面的病毒载体测量的叶面掩模的功效与N95相比:II期,多中心,随机,受控,开放标签,临床试验协议
机译:开发先进模具/掩模工艺中心和小型化技术应用。