IBM Semiconductor Research and Development Center;
integrated metrology; process control; critical dimension; overlay; film thickness; lithography; etch;
机译:测量曝光图案和相关计量装置的计量方法
机译:计量学应用于法医模式证据领域-呼吁更多的法医科学计量学原理
机译:整体计量方法:利用散射测量,临界尺寸-原子力显微镜和临界尺寸扫描电子显微镜的混合计量
机译:多图案化过程层的整体计量资质综合方法:高级计量
机译:可定制和多尺度光学计量测量的斑点图案
机译:散射作为量子计量问题:量子步行方法
机译:基于在定向模式GaAs中上转换的量子级联激光器的频率梳形学的稳健,频率稳定且准确的中红外激光光谱仪