A.M. Prokhorov General Physics Institute of Russian Academy of Sciences, 38 Vavilov Street, 119991 Moscow;
CVD diamond film; fused silica; pump-probe shadowgraphy and interferometry; laser induced refractive index;
机译:快速加热处理后CVD金刚石膜的石墨化和光学吸收的定量研究
机译:快速加热处理石墨化与光学劣化机理
机译:辐射损伤对CVD金刚石膜的光学,电学和热物理性质的影响
机译:PicoSecond 2D-CVD金刚石膜损伤和石墨化研究
机译:用于超低介电常数层间电介质应用的含氟和碳的PECVD膜和类金刚石碳膜的研究。
机译:新型金刚石薄膜合成策略:无氢的微波等离子体CVD法制备甲醇和氩气氛
机译:CVD钻石电影的新方面。通过激光消融石墨在氧气气氛中的无氢气相合成。
机译:CVD-金刚石和类金刚石碳薄膜的sTm和aFm