BK21 Mechatronics Group Dept.of Mechanical Design Engineering Chungnam National University 220Gung-dong Yuseong-gu Daejeon 305-764 Korea;
Director ofBK21 Mechatronics Group Dept.of Mechanical Design Engineering Chungnam National University 220 Gung-dong Yuseong-gu Daejeon 305-764 Korea;
Magnetic granular films; Magnetron sputtering; Coercivity; Fe50Co50;
机译:溅射镍/铜多层薄膜的总膜厚控制结构和相关磁性能
机译:用原子层沉积获得的氧化铁薄膜的结构,形态学和磁性,其厚度函数
机译:厚度依赖性结构排序和Co2Fesi薄膜的磁性,有或没有Cr缓冲层
机译:厚度对单层扫描膜的磁各向异性和磁性的影响通过原位退火
机译:膜厚和堆积顺序对钙钛矿氧化物双层磁性的影响
机译:原子层沉积生长La2O3薄膜的膜厚和退火温度表征结构性能。
机译:溅射Ni / Al多层膜的结构和相应磁性:Ni层厚度的影响