首页> 外文会议>Conference on Metrology for Archaeology and Cultural Heritage >Effect of Applied Pressure on Patch Resonator-Based Measurements of Moisture Level for Cultural Heritage Materials
【24h】

Effect of Applied Pressure on Patch Resonator-Based Measurements of Moisture Level for Cultural Heritage Materials

机译:施加压力对基于传承谐振器的文化遗产材料水分含量测量的影响

获取原文

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号