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【24h】

インピーダンス解析による強誘電性HfO_2における分極反転過程の観察

机译:铁电HfO_2极化反转过程的阻抗分析

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摘要

近年high-k膜で知られるHfO_2が他元素の添加により強誘電性を示すことが発見され,この機能を活かした負性容量ゲート絶縁膜や不揮発性メモリへの可能性が模索されている.しかし一方で強誘電性HfO_2は常誘電相との共存や,抗電界の膜厚依存性が従来の強誘電体とは異なるといった特徴も示されており,デバイス設計における動作周波数の観点等からも分極反転機構の理解が求められる.本研究では強誘電性を示すHfO_2薄膜についてインピーダンス解析に基づレ、た分極反転過程の理解を試みた.
机译:最近,发现被称为高k膜的HfO_2通过添加其他元素而表现出铁电性,并且正在探索将该功能用于负电容栅绝缘膜和非易失性存储器的可能性。但是,另一方面,铁电体HfO_2具有与常规铁电体不同的顺电相共存和矫顽电场的膜厚依赖性,从器件设计的工作频率等观点出发。在这项研究中,我们试图基于显示铁电的HfO_2薄膜的阻抗分析来了解极化反转过程。

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