Southwall Technologies Inc., Tempe, AZ;
organometallic precursors; plasma source; optical coating equipment; wed coating applications;
机译:有机硅微波等离子体化学气相沉积(PECVD)涂层中等离子体后反应的固态核磁共振研究。
机译:NH {sub} 3等离子体预处理对通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的TiN涂层的性能的影响
机译:使用卷对卷微波等离子体化学气相沉积法在低温下大面积涂覆石墨烯
机译:微波等离子体增强化学气相沉积辊涂涂布机的抗反射涂层的表征
机译:通过微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)合成和表征金刚石薄膜。
机译:在Nafion负载的电化学沉积钴纳米粒子上进行等离子体增强化学气相沉积产生的金属/碳杂化纳米结构
机译:CdS / Cuinse2薄膜太阳能电池的氮氮化硅抗反射涂层通过电子束辅助化学气相沉积
机译:化学气相沉积法制备多相涂层的微观结构表征。