Sokudo Co., Ltd., Kyoto, Japan 600-8009;
ASML, Veldhoven, The Netherlands, 5504 DR;
Air Products and Chemicals Inc., Allentown, PA, USA 18195;
surface conditioner; LWR; process optimization; process window; lithographic DOF; lithographic EL; useable DOF; useable EL; 50 nm dense lines; pattern collapse;
机译:使用Littrow棱镜作为Lloyd干涉仪,通过浸没干涉光刻进行亚50纳米图案化
机译:193nm浸没式光刻的定量图案塌缩计量学
机译:193nm浸没式光刻的定量图案塌缩计量学
机译:50 nm浸入光刻中配制的表面调节剂:同时降低图案塌陷和线宽粗糙度
机译:下一代光刻的线边缘粗糙度研究:碳纳米管在数百纳米图案测量中的应用。
机译:在表面小于50nm的硅膜中根据表面粗糙度效应定制塞贝克系数
机译:193NM浸入光刻的定量模式崩溃计量