Advanced Nano-Tech Development Division, DongbuElectronics, Chungbuk 369-852, Korea;
anti-reflection; standing wave; hard mask; CD uniformity;
机译:W / WAlSiN / SiON / SiO_2串联吸收器的优化,该吸收器由双层减反射涂层组成,在太阳光谱范围内具有宽带吸收
机译:亚微米级CIGS太阳能电池使用多孔MgF_2的多层宽带减反射涂层的光学优化
机译:钙钛矿型太阳能电池抗反射层和背接触的优化
机译:双防反射层的硬掩码优化
机译:硅太阳能电池黑色硅防反射层的合成
机译:UWSN中基于磷虾群优化的动态分层双团簇头路由算法
机译:EUV敏感Si HardMask对NTD工艺EUVL eUVL型图案的影响及优化