机译:基材温度对PTOX薄膜组成,电阻率和红外发射率的影响
机译:喷涂热解过程中的沉积时间和基体温度对2 wt%掺氟氧化锡导电玻璃的电阻率和透光率的影响
机译:衬底温度对真空热蒸发法制备CuAlS2薄膜电阻率和表面形貌的影响
机译:甲硅烷基化抗蚀剂的干燥发育:衬底温度的影响
机译:st鱼lake体中皮质醇应激反应的个体发育受早期发育过程中基质和温度的影响。
机译:不同热风干燥温度对柿子切片干燥动力学收缩率和颜色的影响
机译:新型等离子体配置中甲硅烷基化深紫外紫外线的干蚀刻特征。
机译:氨基二硅烷作为甲硅烷基化剂,用于干法显影的正极性抗蚀剂,用于极紫外(13.5)微光刻