有機金属分解法によるNd_2BiFe_4GaO_（12) 薄膜作製における仮焼成条件の検討

摘要

これまでに我々は，有機金属分解（MOD）法を用いて、優れた磁気光学特性を示すNd_(0.5)Bi_(2.5)Fe_(5-y）Ga_yO_(12) (Bi2.5Ga:NIG)薄膜をガラス基板上に作製することに成功した。ここで，下地層として用いるNd_2BiFe_4GaO_(12) (Bi1Ga1:NIG)薄膜の特性は，Bi2.5Ga:NIG 薄膜の特性に大きく影響を及ぼすため，最適な作製条件を求める必要がある。しかし，MOD プロセスにおける仮焼成条件の検討がこれまで十分に行なわれていなかった。そこで，今回は仮焼成の条件を変化させてBi1Ga1:NIG 薄膜を作製し，評価を行った。