Institut fuer Oberflaechenmodifizierung, Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany;
ion beam assisted deposition; GaN polytypes; XRD pole figures; ion beam induced defects;
机译:应用衬底偏压低能离子束辅助沉积合成立方氮化硼薄膜
机译:六方氮化镓薄膜的离子束辅助分子束外延与常规分子束外延的比较
机译:脉冲激光沉积中的氮背景压力控制氮化镓和氮化铝薄膜的结构和表面形态
机译:低能量氮离子束辅助氮化镓薄膜沉积的影响
机译:利用分子束外延研究低位错密度氮化镓薄膜的离子束辅助沉积。
机译:低能电子辐照下潜在铜前体薄膜对聚焦电子束诱导沉积(FEBID)的响应
机译:通过电子束光刻在衬底上沉积氮化镓薄膜
机译:使用低能量(10-500 EV)离子束沉积系统在低温下直接形成薄膜和外延叠层