Dept. of Innovation Engineering, University of Salento, Lecce, 73100, Italy;
Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR), Istituto di Metodologie Inorganiche e dei Plasmi (IMIP), Bari, Italy;
Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR), Istituto di Metodologie Inorganiche e dei Plasmi (IMIP), Bari, Italy;
Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR), Istituto di Metodologie Inorganiche e dei Plasmi (IMIP), Bari, Italy;
Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR), Istituto di Metodologie Inorganiche e dei Plasmi (IMIP), Bari, Italy;
Films; Diamond; Substrates; Plasma temperature; Surface treatment;
机译:多晶金刚石薄膜,具有量身定制的微/纳米结构/掺杂,适用于新型大面积薄膜钻石电子产品
机译:金刚石薄膜的红外光学性能和CVD金刚石探测器的电性能
机译:微波辅助化学气相沉积三甲基硼在金刚石(100)衬底上合成的掺硼金刚石薄膜的表面形态和电性能
机译:电气和电子电路钻石电影
机译:掺磷金刚石薄膜的生长和表征:掺杂,电学表征,界面的EBIC表征和某些器件应用的影响
机译:热活化CH4-H2气体混合物的高速流动生长的金刚石膜的结构
机译:钻石电影的特殊问题/沉积方法,表征和应用。金刚石薄膜对电子的应用。
机译:天然金刚石和金刚石薄膜在室温和1200℃之间的电阻率:状态更新