Institute of Microsystems, School of Mechanical Engineering, Huazhong University of Science Technology, HUST Wuhan, China;
Films; Finite element analysis; Integrated circuit modeling; Residual stresses; Silicon; Silicon nitride; pressure sensor; residual stresses; silicon nitride; surface micro-machined Finite Element Method(FEA);
机译:高残余应力下具有薄膜片的微机械压阻式压力传感器的压力非线性
机译:摩擦学表面设计的各个方面,特别涉及低压氮化和滚动接触中的残余应力的影响
机译:用于表面微加工膜的叠层Pecvd氮化硅膜的研究
机译:膜残余应力对表面微机械线氮化硅压力传感器性能的影响
机译:6H-碳化硅(0001)的表面蚀刻及其对氮化镓,MOCVD的氮化铝和APCVD的碳化硅生长的影响。
机译:残余热应力对氮化硅基复合材料力学性能的影响
机译:开启应力敏感性改进后右转氮化物膜窒息效应的多晶硅场效应晶体管压力传感器