School of Engineering Physical Sciences, Heriot-Watt University, Edinburgh, EH14 4AS, UK;
机译:用气相HF和水蚀刻二氧化硅:引发,本体蚀刻和终止
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机译:气相HF /蒸气热氧化硅膜蚀刻
机译:氧化硅膜气相HF蚀刻中水和醇的表征及比较
机译:气相蚀刻二氧化硅薄膜。
机译:硅基薄膜气相化学与反应离子蚀刻动力学的关系(SiCSiO
机译:二氧化硅薄膜的气相蚀刻
机译:用于微纳米和纳米光刻的二氧化硅的催化HF蒸气蚀刻