Department of Metallurgy and Ceramics Science, Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan;
ferroelectrics; PZT; thin films; domain structure; ferroelectric memories;
机译:PZT薄膜中P-E磁滞曲线的频率依赖性
机译:PZT薄膜的P-E滞回曲线的高频测量
机译:激励频率和振幅对10 MHZ滞回频率下SBT和PZT薄膜的开关特性的影响
机译:P-E滞后曲线在P-E薄膜中的频率依赖性
机译:射频微机电开关金薄膜致动膜的温度依赖性和特性
机译:银掺杂0.9pmN-pT-0.1pZT复合膜对甚高频超声换能器的应用
机译:PZT薄膜的介电和声学高频特征