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ZHENG Shaomei; 郑少梅; HAO Guoxiang; 郝国祥;
中国机械工程学会热处理分会;
等离子渗氮工艺; 活性屏; 阴极溅射; 渗氮效果;
机译:渗氮参数对SACM645钢活性屏等离子体渗氮响应的影响。
机译:经典活性屏等离子体氮化与半球形阴极笼活性屏等离子体氮化之间的氮化层差异
机译:屏等离子体渗氮工艺在奥氏体不锈钢S相层上获得高硬度值的现象
机译:活性屏无氢等离子渗氮钢
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:氩氮和氧气氛中来自复合AlCr阴极的阴极电弧等离子体中元素和电荷态分辨的离子能量
机译:渗氮参数对SACM645钢活性屏等离子体渗氮反应的影响。
机译:内渗氮工艺开发高蠕变强度钼钨合金
机译:锂离子电池用氧化物基阴极活性材料的制造方法锂离子电池的氧化物基阴极活性材料的制造方法锂离子电池及锂离子电池的氧化物基阴极的活性材料的制造方法
机译:用于通过等离子体辅助涂覆衬底的电极装置,在阴极表面上包括在蒸发中的活性部分,该活性部分支持等离子体放电;以及在惰性部分中的辅助放电的活性部分。及其在涂料包装中的用途。
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