纳米柱状SiO2减反射薄膜的研究

摘要

以硅片和石英片为衬底,SiO2 为膜料,采用电子束斜向沉积的镀膜方法制备纳米柱状SiO2 减反射薄膜.通过测试镀膜前后衬底的反射率来验证纳米柱状SiO2 薄膜的减反射效果.利用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面形貌并测量薄膜厚度.根据实验测试结果,讨论不同膜厚纳米柱状SiO2 薄膜的减反射性能,并对减反射性能与薄膜厚度之间的关系进行了研究.实验结果表明,当蒸发速率为2(A)/s,镀膜时间在25 分钟左右,纳米柱状SiO2 薄膜的减反射性能较好.