单层膜特性对Low-E性能的影响

摘要

本章对离线低辐射薄膜中使用的部分材料——银层、氧化锌、氮化硅、氧化锆、氧化锡、氧化钛进行研究，分析其对膜层的影响或其工艺条件对单层膜的影响，结果可总结为：控制银层厚度为18nm，增加溅射气体量，溅射气压由0．5Pa提高至4Pa，Low-E膜面电阻变差。银层溅射气压的升高，Low-E膜面电阻随着变差。氮化硅厚度的增加，有助于提高Low-E膜钢化性能的稳定性。氧化锆膜层作为保护层，可有效提高Low-E膜抗划伤性能。氧化锡在反应溅射中存在“迟滞效应”，增加氧气量，使氧化锡完全处于氧化态溅射，对Low-E膜的性能稳定是有利的。氧化钛膜层在20～30nm之间时，膜层厚度的增加，可提高Low-E产品可见光的透过率。