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NIE Lan-jian; 聂兰舰; 向在奎; XIANG Zai-kui; JIA Ya-nan; 贾亚男; ZHANG Chen-yang; 张辰阳; WANG Lei; 王蕾;
中国硅酸盐学会;
半导体集成电路; 刻蚀工艺; 石英玻璃; 耐久性能;
机译:激光诱导的背面湿法刻蚀在石英玻璃上制备多个倾斜的微结构
机译:进行涂层和扩散研究以改善石英玻璃坩埚用于制备半导体单晶硅的性能
机译:透明半导体铟锌氧化物薄膜的制备及其在盐酸中的湿法化学刻蚀特性
机译:采用多步骤激光可调湿法刻蚀在石英玻璃上无掩模制备多焦点微透镜阵列
机译:电化学刻蚀法制备适用于扫描探针显微镜的钨棒
机译:模具辅助化学刻蚀制备的有序纳米多孔阳极氧化铝的制备
机译:通过电感耦合等离子体刻蚀和快速湿法刻蚀制备高品质因子GaAs / InAsSb光子晶体微腔
机译:单自对准刻蚀工艺制备三维硅基光子晶体结构。
机译:具有高刻蚀选择性的刻蚀组合物,其制备方法,选择性刻蚀氧化物膜的方法以及使用相同方法制造半导体器件的方法
机译:制备结构部件的方法,其中通过各向异性湿法刻蚀形成特定的功能结构,即刻蚀槽,可用于生产单晶半导体
机译:半导体刻蚀溶液,制备方法和刻蚀方法
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