壓電晶片振動對低速管流內粒子沉積之影響

摘要

本研究以主动控制之方式以定量及定性之实验方法研究压电晶片振动对低速管流中之飘浮粒子於壁面沉积的影响，实验之控制参数为入口风速、晶片输入电压、振动频率及晶片装置位置等。实验中，基於出口高度(H=30mm)为特徵长度之雷诺数为111与133，研究中藉由量测植入与流失的粒子重量差作沉积之定量分析。结果显示在较高入口风速及较低振动频率时粒子不易沉积，此点与沉积粒子之波状条纹的定性分析可相互得到验证。热线测速仪的量测中发现在晶片後方之流场有较大的流向速度扰动强度，频谱分析则显示激扰频率的改变对晶片下游之流场较晶片间之流场有较显着之影响，过近的晶片距离会交互干扰使得沉积增加。