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康健强; 杨毅夫; 江西; 邵惠霞;
中国化学会;
扬州大学;
厦门大学;
金属表面; 钝化层; 界面电容; 镍钴合金;
机译:详细研究臭氧基原子层沉积的AlO_X的界面性质对晶体硅表面钝化的影响
机译:Ni / 4H-SiC(0 0 0 1)肖特基二极管中界面氧化物层的电容电导光谱研究
机译:超薄原子层沉积的被SiN_x覆盖的Al_2O_3层的c-Si表面钝化的c-Si / Al_2O_3界面的性质
机译:在化学镀镍UBM焊接界面处的Ni-Sn金属间化合物和富含P-镍的Ni层及其对倒装芯片焊点可靠性的影响
机译:氢对钯-金属氧化物-硅电容器的影响(界面态,电容,电导率,化学传感器,扩散)
机译:石墨烯插层对HfO2介电可靠性的影响以及Ni / Gr / c-HfO2界面有效功函数的调制:第一性原理研究
机译:Ni / W(110)界面的核心能级光谱:W界面核心水平位移与第一层Ni相的相关性
机译:分子单分子层在Ni-Ni界面上的润滑
机译:碳化硅双极结晶体管(BJT),其表面电极设置在表面钝化层上,该表面钝化层形成在发射极触点和基极触点之间的区域
机译:制备Ni-P,Co-P,Ni-Co-P的选择性金属层的方法以及用于选择性生产Ni-P,Co-P,Ni-Co-P的金属层的催化浆料
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