电阻阵列非均匀性校正

摘要

电阻阵列的非均匀性表现为辐射像元响应特性的差异，是投射图像固定噪声的主要来源和影响电阻阵列性能的重要因素。电阻阵列的非均匀性是由其工作原理和结构特点所决定的，对其成因和校正技术进行了详细的论述。研究了电阻阵列辐射像元的一般响应特性，讨论了线性化的必要性;给出了非均匀性校正的基本流程，给出了离线数据处理方法和实时校正算法。介绍并分析了全屏和稀疏网格两种不同的测试方法，通过数字仿真分析表明点阵模式的稀疏网格校正能采集更多的非均匀性信息，校正精度高。