TbFe磁性薄膜的磁力显微镜成像研究

摘要

利用磁力显微镜(MFM)对TbFe磁性薄膜进行了不同抬举距离(分别为60～780nm)的磁力成像研究。在实验中,比较了低抬举距离(100nm以下)磁力像中样品一针尖的互相干扰；同时发现在高抬举距离磁力像中,随着抬举距离的增大,出现了与高凸起形貌对应的图像衬度特征,并随抬举距离的变化也改变着位置与强度,一直到抬举距离为仪器的极限值780nm时,形貌干扰仍未消失,对其形成机制进行了分析。