首页> 中文会议>第五届全国信息获取与处理学术会议 >基于单CCD应用线结构光测量熔敷层厚度

基于单CCD应用线结构光测量熔敷层厚度

摘要

本文提出了基于单CCD应用线结构光测量熔覆层厚度的理论方法,结合摄像机标定、光平面标定、被测物体点三维坐标计算、数据融合、对应点匹配和熔覆层厚度计算等关键技术,建立了一套基于单CCD借助线结构光测量熔覆层厚度的系统,并对系统的结构进行了详细的叙述,此系统的建立为实现熔覆层厚度的定量测量提供了技术支持.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号