Ti-Si-N纳米薄膜的微结构及力学性能研究

摘要

采用多靶磁控轮溅的方法沉积Ti-Si-N系纳米混合膜.利用XRD、TEM以及EDS等手段分析了薄膜的相组成及微结构.研究结果表明,薄膜以TiN为主晶相,并有一定量的Si<,3>N<,4>化合物相存在.这些化合物呈非晶或纳米晶沿TiN晶界相分布,抑制了TiN晶粒生长,使TiN也呈纳米晶.随Si含量的証