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多晶硅薄膜材料的准分子激光烧结制备与性能研究

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摘要

在玻璃衬底上采用PECVD法制备a-Si:H薄膜基础上,采用308nmXeCl激光器对所制备的薄膜进行了激光晶化烧结,利用XRD、Raman、SEM及电学性能测试等方法对所制备多晶硅薄膜材料的结构与性能进行了研究.

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来源
《第四届中国功能材料及其应用学术会议》|2001年|1461-1463|共3页
会议地点厦门
作者
邱法斌; 张玉; 骆文生; 刘传珍; 荆海; 黄锡珉;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类薄膜的性质;
关键词
激光烧结; 多晶硅薄膜; 制备; 性能; 薄膜材料;

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