在低温(＜400°C)热液实验中氧逸度的控制及量度方法上的一些建议

摘要

在低温条件下，H2在熔融硅中依然有很高的扩散速率，譬如它在常温下在熔融硅中的扩散系数比500°C条件下在Pt中的扩散系数还要高一个数量级。因此，熔融硅可以取代Pt或者Ag-Pd合金成为低温下氢的半透膜，并且由于它具有透明的特性，熔融毛细硅管囊中的H2含量可通过拉曼光谱来做定量分析。若用等压法，在其气相中增加H2的熔融毛细硅管囊感应器，即可在低温热液实验中有效地控制及量度样品的氧逸度或氢逸度。