射流抛光中材料去除实验研究

摘要

随着科学技术的不断发展,尖端产品及设备对元件的表面要求越来越苛刻,而传统的加工方法很难实现.因此超光滑表面的加工技术得到迅速发展.在多种超光滑表面加工技术中,射流抛光技术(Fluid Jet Polishing,简称FJP),由于能够获得原子级粗糙度和无损伤表面,已成为最具发展优势及潜力的新技术之一.但目前FJP仍存在很多问题,阻碍了该技术进一步的推广和应用.本文利用研制的射流抛光机,试验研究了射流抛光中各主要工艺参数对材料去除率的影响,并以此分析了射流抛光中的材料去除机理.