基于测高仪和卫星就位观测的电离层F层峰上电子密度剖面的研究

摘要

本工作基于测高仪和卫星就位等离子体观测，采用Chapman剖面函数进行电离层F层峰上电子密度剖面的重构，进而从得到的顶部剖面推算标高。从统计上将它与测高仪得到的剖面标高进行对比，分析发现从底部电子密度剖面外推间接得到顶部剖面的可靠性需要改进。