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磁场对直流等离子体射流CVD法沉积金刚石膜的影响

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在直流等离子体射流ＣＶＤ装置上安装了磁铁装置，沉积出较大面积均匀金刚石膜（ｄ３０ｍｍ）。

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来源
《中国有色金属学会第三届学术会议》|1997年|286-290|共5页
会议地点
作者
周克崧;
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会议组织
正文语种
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中图分类薄膜技术;
关键词
等离子射流CVD法;

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