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非致冷红外焦平面阵列的发展动向

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自非致冷红外焦平面阵列(UFPA)发展以来,其器件制备技术日趋成熟,探测材料不断更新,以Si、Ti、VOx等热敏电阻材料和(Ba、Sr)TiO<,3>等热释电材料制作的阵列,前景尤为看好.本文主要从探测材料的研究角度评述UFPA的发展动向.

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来源
《全国光电技术学术交流会》|2000年|208-212|共5页
会议地点广西北海
作者
刘少波; 刘梅冬; 普亦可;
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作者单位

中国宇航学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类红外光学材料;
关键词
非致冷红外焦平面阵列; 热释电; 微测辐射热计; 红外探测材料;

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