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HT-7U纵场磁体的真空压力浸渍

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主要通过模拟匝间流动试验、短样试验和长样试验等,探求低温超导托卡马克HT-7U中从场磁体线圈的绝缘层真空压力浸渍的工艺参数,确定工艺流程,并以模型线圈试验的电性能和液氦温度下的力学性能来验证工艺参数及工艺流程的可靠性.

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来源
《中国真空学会薄膜技术学术交流会》|2001年|217-220|共4页
会议地点北京
作者
崔益民; 潘皖江; 武松涛;
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作者单位

中国真空学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类磁性材料、铁磁材料 ;
关键词
低温超导磁体; 纵场磁体线圈; 真空压力浸渍; 工艺参数; 工艺流程;

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