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宽温低铬镀铬工艺的最新研究进展

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本文阐述了电镀铬的高铬工艺和低铬工艺的应用概况,以及目前低铬镀铬添加剂的优点和存在的缺陷,探讨了21世纪下低铬工艺的发展方向,并向电镀界推介了具有创造性的第三代新型镀铬添加剂TCR-21.

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来源
《2002全国电子电镀学术年会》|2002年|35-40|共6页
会议地点深圳
作者
王光辉; 成兰英;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TQ153.11;
关键词
镀铬; 低铬镀铬; 深镀力; TR-21镀铬添加剂; 低铬工艺;

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