首页> 中文会议>第五届全国农业生物化学与分子生物学学术交流会 >极端污染条件下草苷膦抗性及降解基因的克隆

极端污染条件下草苷膦抗性及降解基因的克隆

摘要

文章介绍了在长期受草苷磷污染的极端环境中,获取具有高效耐受或降解草苷磷能力的微生物菌株,克隆拥有自主知识产权的草苷磷抗性及降解基因.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号