桑色素-高锰酸钾化学发光反应新体系的研究

摘要

通过对桑色素-高锰酸钾在酸性条件下化学发光行为的研究，发现了一个新的强化学发光体系。在0.3mol／L硫酸介质中，桑色素的浓度为1×10-4mol/L。高锰酸钾的浓度为4×10-4mol/L，化学发光强度最强。在酸性介质中，这个强的化学发光体系尚未见报道。将该体系与流动注射技术相结合，能大大拓宽化学发光分析的应用研究领域。